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英飞凌通过TLVR四相模块瞄准AI功率密度

英飞凌科技推出了业内首款基于 TLVR 架构、电流密度超过 2A/mm 的四相电源模块,精准面向下一代 AI 计算平台。该公司表示,全新 TDM24745T OptiMOS 模块将多个功率元器件集成在紧凑尺寸内,以应对 AI 数据中心日益增长的功率密度需求。

此次发布凸显了 AI 基础设施中的一个关键瓶颈 高效供电,并揭示了半导体厂商如何在系统层面解决规模化扩展难题。

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根据官方发布信息,TDM24745T 在 9×10×5mm 的封装内集成了四个功率级、一个互感电感电压调节器(TLVR)电感以及去耦电容。这种高度集成设计实现了超过 2A/mm 的电流密度,同时支持横向与纵向供电架构。

英飞凌功率集成电路与连接事业部高级副总裁兼总经理 Athar Zaidi 在发布稿中表示:“随着 AI 负载以前所未有的速度扩展,对高效、极致紧凑供电方案的需求愈发迫切。借助 TDM24745T,我们重新定义了大电流稳压的性能边界。将业内领先的电流密度与 TLVR 技术结合,并封装在极小尺寸内,我们帮助客户释放更多计算性能、降低能耗,并加速下一代 AI 数据中心的部署。”

该模块峰值电流能力最高可达 320A,适用于大电流多处理器平台与先进 AI 加速器。

TLVR 架构提升效率,优化布局

英飞凌表示,TLVR 架构可实现更快的瞬态响应,同时将所需输出电容减少多达 50%,简化系统设计。这一缩减可直接节省 PCB 空间,让设计人员能分配更多区域用于计算资源。

公司还强调,通过采用 OptiMOS6 MOSFET 技术、芯片嵌入式集成方案以及专用磁件,产品实现了更优的散热与效率表现。搭配英飞凌数字多相控制器,该模块支持可扩展、灵活的电源架构,适配快速演进的 AI 负载。英飞凌指出,TDM24745T 已融入其完整的 AI 电源生态,覆盖从电网到核心的供电链路,并结合硅、碳化硅(SiC)与氮化镓(GaN)技术,优化数据中心设计的效率与稳健性。

对 AI 数据中心的系统级价值

随着 AI 基础设施持续规模化,供电正成为决定性约束条件。英飞凌称,通过将多种功能集成在紧凑模块中并提升瞬态响应,旨在降低系统复杂度,同时优化总体拥有成本(TCO)。对系统设计人员而言,更高的电流密度、更少的无源器件需求以及更优的效率,有助于加快部署进度,并实现更高密度的计算架构。

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